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反映问题还是反应问题,反应问题和反映问题有什么区别和联系

反映问题还是反应问题,反应问题和反映问题有什么区别和联系 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国家知(zhī)识产权局(jú)局(jú)长(zhǎng)申长雨在新闻发布(bù)会上(shàng)表示,将统筹推进各类知识(shí)产权法律(lǜ)法规(guī)和(hé)制度规则(zé)的制修订工作。其中,修改完善集(jí)成电路布图设计保护条(tiáo)例,适(shì)应大(dà)规模集成电路(lù)发展(zhǎn)需要,助力(lì)芯片产业(yè)做大做(zuò)强,服务数字经济更好(hǎo)发展。

  加强大(dà)数据、人(rén)工(反映问题还是反应问题,反应问题和反映问题有什么区别和联系gōng)智能(néng)、基因技术(shù)等新领域新业(yè)态知识产权规则研究,助力相关(guān)领域创(chuàng)新发展。同时,积(jī)极(jí)参与知识产权国际规(guī)则制定,更(gèng)好对接高标准国际经贸规(guī)则,助力高水平对外开放。

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