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　　美光(guāng)公司在华(huá)销售的产品未通过网络安全审查

　　据(jù)网信办(bàn)消息(xī)，日前，网络安全审(shěn)查办公(gōng)室依法(fǎ)对美光公(gōng)司(sī)在华销售产品进行了网络安全审查。

　　审查发现，美(měi)光公司产品(pǐn)存(cún)在较严重网络安全问题隐患，对我国关键信息基础(chǔ)设施供应链造成(chéng)重大安全风险，影(yǐng)响我国国家安全。为此，网络安(ān)全审查办公室(shì)依(yī)法作出不予通过网络(luò)安(ān)全审查的结论。按照《网络安全(quán)法》等法(fǎ)律法(fǎ)规，我国内关键信息(xī)基础设施的(de)运(yùn)营者(zhě)应停(tíng)止采购(gòu)美(měi)光公司产品。

　　此次对美光公(gōng)司产(chǎn)品(pǐn)进(jìn)行网(wǎng)络(luò)安全审(shěn)查，目的是(shì)防范产品网(wǎng)络安全(quán)问题(tí)危害国家关键(jiàn)信息基础设(shè)施(shī)安全，是维护国(guó)家安全(quán)的必(bì)要措施。中国坚定推进高水平对外开放，只要遵守(shǒu)中国法(fǎ)律法规要求(qiú)，欢(huān)迎各(gè)国企业、各类(lèi)平(píng)台产品服(fú)务进入中国市场。

　　3月(yuè)31日，中国网信网发文称，为保障关(guān)键信息基(jī)础设施供应链(liàn)安全，防范产品(pǐn)问题隐患造成网络安全风险(xiǎn)，维护(hù)国(guó)家安全，依据《中华人民(mín)共和(hé)国(guó)国家安全法》《中华(huá)人民共和国网络安全法》，网络安(ān)全审查办公室按(àn)照(zhào)《网(wǎng)络安(ān)全(quán)审查办法(fǎ)》，对(duì)美(měi)光公司（Micron）在华销售的(de)产品实施网络安全审查。

　　美光是美国的存储芯(xīn)片行业龙头，也(yě)是全球存储芯片巨头(tóu)之一，2022年收(shōu)入来自(zì)中(zhōng)国(guó)市(shì)场(chǎng)收入从此前高峰57％降至2022年约11％。根(gēn)据(jù)市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计(jì)，2021 年三星(xīng)电子(zi)、 铠侠、西(xī)部(bù)数据(jù)、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额约为 96.76％，三星电子(zi)、 SK 海力士(shì)、美(měi)光在全球 DRAM （内(nèi)存）市(shì)场份额约为 94.35％。

　　A股(gǔ)上(shàng)市(shì)公司中，江(jiāng)波龙、佰维(wéi)存(cún)储钢琴里面小快板的速度是多少，钢琴中小快板是什么意思等公(gōng)司披露(lù)过(guò)美(měi)光等(děng)国际存储厂商为公(gōng)司(sī)供应商。

　　美光(guāng)在江(jiāng)波龙采购(gòu)占比已经显著下降，至(zhì)少已(yǐ)经(jīng)不是主要大供应商。

　　公告显示， 2021年美光位列江(jiāng)波龙第一大存储晶圆供应(yīng)商钢琴里面小快板的速度是多少，钢琴中小快板是什么意思，采购约31亿元，占比33.52％；2022年，江波(bō)龙第一大、第二大和第三大供应商采购金(jīn)额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江(jiāng)波(bō)龙已经在存储产业链上下(xià)游建立国内(nèi)外广泛合作。2022年年报显示(shì)，江波龙(lóng)与三星、美光、西部数据等主要存储晶(jīng)圆原(yuán)厂签(qiān)署了长(zhǎng)期合约，确(què)保存储晶圆(yuán)供(gōng)应的(de)稳(wěn)定性，巩固公司在下游市场的供应优势，公司也与国内国产存储晶钢琴里面小快板的速度是多少，钢琴中小快板是什么意思圆原厂武汉长江存储、合肥长鑫(xīn)保持良好的合作。

　　有(yǒu)券商(shāng)此前就分析(xī)，如(rú)果美光(guāng)在中国区销(xiāo)售受到限制，或将导致下游客户转而采购国外三星、 SK海力士，国内长江存储、长鑫(xīn)存储等竞对产品

　　分析(xī)称，长(zhǎng)存、长(zhǎng)鑫的上游(yóu)设备(bèi)厂(chǎng)或从中(zhōng)受益。存储器(qì)的(de)生产已(yǐ)经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工(gōng)艺。另外(wài)NAND Flash现在已经进入3D NAND时代(dài)，2 维到3维的结构(gòu)转(zhuǎn)变使刻(kè)蚀和薄膜成为(wèi)最关键、最(zuì)大量的加工设备。3D NAND每层均需要经过(guò)薄膜(mó)沉积(jī)工艺步骤，同时刻蚀目前前(qián)沿要刻到 60：1的深孔，未来(lái)可(kě)能会(huì)更深(shēn)的孔(kǒng)或者沟槽，催生更多设备需求。据东京(jīng)电子披露，薄(báo)膜沉积设备(bèi)及刻蚀占(zhàn)3D NAND产(chǎn)线资(zī)本开(kāi)支合计为75％。自长(zhǎng)江存储被加入美国限(xiàn)制名(míng)单，设(shè)备国产(chǎn)化(huà)进程加速，看好拓荆科(kē)技（薄膜沉积）等相关公司份额提(tí)升，以及存储业务占比较高的华海清科(kē)（CMP）、盛美(měi)上(shàng)海(hǎi)（清洗）等收入增长。

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